技术特点

★主机包含：真空系统，温度控制系统，压力控制系统，水冷系统，PLC 控

制系统，软件操作界面，紫外光源，单面电磁加热系统

            设备压印尺寸：4 英寸。

设备可以实现热压印、紫外曝光压印

★大压力：8bar（空压机），20bar（外接超净室气源）

  温度范围：从室温到 250 摄氏度。

紫外光源类型：高压汞灯：功率：400W，主波长：365nm。

★设备真空度：10 帕。

★设备随机可以根据科研需求提供全系列的纳米压印胶，包括：

热压胶、紫外光固化胶

深刻蚀型压印胶、举离型（Lift-Off）压印胶

快速模板制作材料、各类模板防沾剂、衬底增粘剂等

★随设备随机可以根据科研需求提供定制纳米压印模板，包括：周期 400nm的 4英寸点阵模板镍模板 SFP® & Hybrid Mold®软模板

支持 20nm 分辨率及曲面压印，并提供文献工艺支持，

★支持自动脱模，电磁加热功能

国内外大于 10 个客户

★工艺包括：

纳米压印胶旋涂工艺支持

纳米压印模板防粘工艺支持，避免脱模粘胶影响

纳米压印机参数调节

软模板工艺，包括 PDMS 模板、SFP 以及 Hybrid Mold 工艺

ICP 刻蚀工艺

柔性聚合物衬底压印工艺，Nickel Template 金属镍模板热压 PET、PMMA 等

举离（Lift-off）工艺支持，加工金属结构

纳米压印表征技术

更新压印工艺研发指导，文献支持