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大幅面无掩模激光直写光刻机
 

系统优点

v使用GLV (Grating Light Valve)技术,可实现高达1000个单位像素的激光束高速并行直写;

v构建独立设计库,可完成最高自由度的3D光刻,并支持标准图像源、个性化的3D设计源;

v支持最大 0.5米 x 0.5米的激光直写面积,低规格条件下,直写只需55个小时;

v选择关闭灰度写入功能,直写相同曝光面积,其直写速度将提升2倍;

v可定制更大幅面的无掩模激光直写系统解决方案.

 

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