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WNQFHDS系列三轴超精密气浮运动台
 

背景介绍
随着半导体行业的不断发展,相应的加工检测设备的性能提高,我司在运动控制上有着丰富的定位经验,推出了一款平面式H形双轴超气浮运动台。WNQFHDS采用有限元分析优化的碳化硅陶瓷结构和气浮轴承补偿设计技术,提高精度的同时,也提供了动态性能。广泛应用于半导体加工、检测,微纳加工、纳米级飞切抛光加工及高速扫描等行业。

超精度设计
WNQFHDS结构采用先进的碳化硅陶瓷设计,比铝合金气浮导轨性能约高5倍,热膨胀系数约低5倍。用此材料及结构设计提升了动态跟踪误差,高速响应频率及位置稳定性,速度达到1m/s,加速度可达4g。利用多年的气浮制造经验,开发一种新的气浮轴承补偿方法,提高了刚性和负载能力,以满足高动态响应的要求,可实现快速运动和非常快的位置整定。
Z轴采用交叉滚柱导轨导向,直线电机驱动,实现纳米级位置抖动,提升系统精度性能。根据应用,WNQFHDS可用于主动或被动隔振系统,可安装旋转台,倾角台或晶圆装卸用的夹具等,整套设备可以提供焊接件底座,花岗岩基座或主动被动隔振台等。
我们精心优化管线弯曲半径,防止动作过程中线缆的拉伸影响到气浮台的性能,使用高质量的电缆,以确保无故障操作,减少停机时间。同时使设备外观更整洁,创造良好的作业环境。

非接触式直驱设计
WNQFHDS的核心是运用了先进的直线电机,采用了无铁芯设计,实现了超平稳的运动。步进轴和扫描轴使用多个电机驱动,安装位置接近于负载水平面,以提高直线度、平面度和倾角误差等,同时电机是隔热的,对于高占空比应用,电机可选水冷或气冷,尽量避免因电机发热引起的误差。

 

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