精密光学平台控制相对运动都很重要 |
| 精密光学平台广泛应用于光学范畴、电子、精细机械制造、冶金、航天、航空、帆海、精细化工和无损检测范畴的精细测试仪器，以及其他机械行业、在设备隔振的关键装置中。
跟着先进设备和技能的发展，纳米标准的丈量成为可能。比方相变光学干与仪能够丈量物体的外表粗糙度，现在分辨率能够达到1纳米。在半导体范畴，已经生产出亚微米线宽的集成电路，丈量精度的精度要求小于50纳米。
这种应用对体系中不同部件的相关匹配的精度和安稳性提出了极高的要求。
例如，在用显微镜扩大图画的成像体系中，显微镜和拍摄物镜共同确定相纸上每个点的图画。假如在曝光过程中，光学体系的每个部分（照明体系、样品、显微镜光学体系、成像光学体系和相纸平面）都精确的一同移动，没有相对位移，成像会很明晰。假如样品相对于物镜移动，图画将会模糊。在光学干与丈量、在全息照相术中操控相对运动和利用相似规律是非常重要的。
在抱负刚体内部（只在理论上存在）任意两点的相对方位都是一样的。也就是说，在振荡中、在静态扭矩或温度变化的条件下，任何实体的尺度和形状都不变。假如一切部件都牢固地连接成一个抱负刚体，而且不同部件之间没有相对位移，那么体系的功能就会非常安稳。
没有抱负刚体。在现实中，体系只能近似地认为是刚性的，所以它的安稳性会受到很多因素的影响。比方外界的振荡源体系的分量精密光学平台的结构等等。 |
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