主要特点: 1) 桌上型匀胶机,涂膜厚度范围:100nm~100um; 2) 可用于光刻胶(PR),聚酰亚胺(Polyimide),金属有机物(Metallo-organics),搀杂剂(Dopant),硅薄膜(Silica Film),以及大多数的有机溶液、水溶液; 3) 紧凑型设计,用户编辑、控制、存储、取出涂胶程序,易于操作; 4) 加速及减速速率基于设定的时间/转速(Ramp Time/RPM value)自动计算; 5) 用户通过匀胶机前面板显示屏和按钮进行编辑、控制、存储、取出涂胶程序,并进行实验操作。 |